氧化鋯(YSZ)單晶基片是zui早應用于高溫超導薄膜的材料之一。一般使用的氧化鋯需要摻入釔作為穩定劑,常見濃度有13 mol%,YSZ具有機械和化學穩定性好、成本低的特點。由于氧化鋯(YSZ)材料具有高硬度，高強度，高韌性，極高的性及耐化學腐蝕性等等優良的物化性能，氧化鋯已經在陶瓷、耐火材料、機械、電子、光學、航空航天、生物、化學等等各種領域獲得廣泛的應用。
氧化鋯晶體襯底基片
氧化鋯(YSZ)單晶基片是zui早應用于高溫超導薄膜的材料之一。一般使用的氧化鋯需要摻入釔作為穩定劑,常見濃度有13 mol%,YSZ具有機械和化學穩定性好、成本低的特點。由于氧化鋯(YSZ)材料具有高硬度，高強度，高韌性，極高的性及耐化學腐蝕性等等優良的物化性能，氧化鋯已經在陶瓷、耐火材料、機械、電子、光學、航空航天、生物、化學等等各種領域獲得廣泛的應用。
由于氧化鋯(YSZ)材料具有高硬度，高強度，高韌性，極高的性及耐化學腐蝕性等等優良的物化性能，氧化鋯已經在陶瓷、耐火材料、機械、電子、光學、航空航天、生物、化學等等各種領域獲得廣泛的應用。從光學應用的角度來講，單晶氧化鋯(YSZ)因其折射率高、色散大、物化性能穩定，常被用作高溫光學元件，以及在光學設備中作為激光基質晶體。
氧化鋯(YSZ)單晶是目前發現的抗輻照能力zui強的絕緣體材料，在輕水堆中可用作“燃燒”多余钚的惰性基材以及儲存核廢物的基體而倍受關注。
氧化鋯(YSZ)晶體技術參數。 晶體結構：立方；晶格常數:a = 5.125 ；密度:5.8 g / cm3；純度: 99.99%；熔點: 2800°c；熱膨脹系數:10.3 x10-6/ °c；介電常數:27；晶體生長方法：弧熔法。
氧化鋯是自然界的氧化鋯礦物原料，主要有斜鋯石和鋯英石, 純凈的氧化鋯是白色固體，含有雜質時會顯現灰色或淡黃色，添加顯色劑還可顯示各種其它顏色。氧化鋯有三種晶體結構，低溫時為單斜晶系，在1100℃以上形成四方晶型，在1900℃以上形成立方晶型。一般使用的氧化鋯需要摻入釔作為穩定劑,常見濃度有13 mol%，氧化鋯(YSZ)單晶具有機械和化學穩定性好、成本低的特點。
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