超聲波掃描顯微鏡特點:非破壞性、對樣品無損壞。分辨率高,可確定缺陷在樣品內部的準確位置。工作方式按接收信息模式可分為反射模式與透射模式。按掃描方式分可分為 C掃,B掃,X掃,Z掃,分焦距掃描,分波長掃描等多種方式。二次打標假l冒識別塑封器件二次打標可用于塑封元器件表面標識的假l冒識別,通過對期間標識層的多層掃描可發現二次打標痕跡。
EMMI可廣泛應用于偵測各種組件缺陷所產生的漏
超聲檢測服務
超聲波掃描顯微鏡特點:非破壞性、對樣品無損壞。分辨率高,可確定缺陷在樣品內部的準確位置。工作方式按接收信息模式可分為反射模式與透射模式。按掃描方式分可分為 C掃,B掃,X掃,Z掃,分焦距掃描,分波長掃描等多種方式。二次打標假l冒識別塑封器件二次打標可用于塑封元器件表面標識的假l冒識別,通過對期間標識層的多層掃描可發現二次打標痕跡。

EMMI可廣泛應用于偵測各種組件缺陷所產生的漏電流,包括閘極氧化層缺陷(Gate oxide defects)、靜電放電破壞(ESD Failure)、閂鎖效應(Latch Up)、漏電(Leakage)、接面漏電(Junction Leakage) 、順向偏壓(Forward Bias)及在飽和區域操作的晶體管,可藉由EMMI定位,找熱點(Hot Spot 或找亮點)位置,進而得知缺陷原因,幫助后續進一步的失效分析。

無損檢測技術--SAM將scanning acoustic microscope(SAM)用于IC的封裝掃描檢測,可以在不損傷封裝的情況發現封裝的內部缺陷。由于在很多時候不能打開封裝來檢查,即使打開很可能原來的缺陷已經被破壞。利用超聲波的透射、反射特性可以很好解決這個問題。超聲波在不同介質中的傳播速率不同。

芯片失效分析步驟:
1、非破壞性分析:主要是超聲波掃描顯微鏡(C-SAM)--看有沒delamination,xray--看內部結構,等等;
2、電測:主要工具,萬用表,示波器, tek370a
3、破壞性分析:機械decap,化學 decap芯片開封機
4、半導體器件芯片失效分析 芯片內部分析,孔洞氣泡失效分析。
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