在氧化層中大部分的電荷效應是直接或間接地同熱氧化的工藝過程有關的。在800—1250~C的溫度范圍內，用干氧、濕氧或水汽進行的熱氧化過程有三個持續的階段，首先是環境氣氛中的氧進入到已生成的氧化層中，然后氧通過二氧化硅向內部擴散，鋁鈍化哪里好，當它到達Si02-Si界面時就同硅發生反應，形成新的二氧化硅。這樣不斷發生著氧的進入—擴散—反應過程，鋁鈍化怎么樣，使靠近界面的硅不斷轉化為二氧化硅，氧化層就以一定的速率向硅片內部生長。
 
實驗表明，測量時不斷刮磨金屬表面，則金屬的電勢劇烈向負方向移動，也就是修整金屬表面可引起處在鈍態金屬的活化。即證明鈍化現象是一種界面現象。它是在一定條件下，鋁鈍化哪里有，金屬與介質相互接觸的界面上發生變化的。電化學鈍化是陽極極化時，金屬的電位發生變化而在電極表面上形成金屬氧化物或鹽類。

如采用某種能夠溶解金屬而與氧化膜不起作用的試劑，鋁鈍化，小心地溶解除去膜下的金屬，就可分離出能看見的鈍化膜，鈍化膜是怎樣形成的？當金屬陽極溶解時，其周圍附近的溶液層成分發生了變化。一方面，溶解下來的金屬離子因擴散速度不夠快（溶解速度快）而有所積累。
 
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