特長
·通過磁場輔助，可以產生比其他ICP方式低壓力、低電子溫度、高密度等離子體，從離子性蝕刻到自由基性蝕刻，可以進行寬范圍的等離子體控制，因此可以對應于作為開發tool的多用過程。
·搭載了防止RF投入窗的沉積物附著的“Star電極”。另外，具有加熱功能，重視再現性和穩定性的裝置概念。
·實現作為高可靠性輸送機器人、裝置構造簡單、維護簡單等研究開發Tool的可靠性。
·還可以追加豐富的可選功能和暗盒室。
·面向批量生產線，推出了由同一個Chamber構成的支持多個Chamber的NE-5700、NE-7700。
用途
·化合物材料（LED、LD、高頻器件和功率器件）。
·電極加工、金屬布線、有機膜、陶瓷等加工。
·用于加工鐵電體、貴金屬、磁性膜等難蝕刻材料。
·納米壓印、N、M、各種傳感器。
·生物芯片、微流體裝置、光子晶體等。
