相對于傳統(tǒng)鍍膜方式，表面真空鍍膜加工，真空鍍膜應(yīng)用屬于一種干式鍍膜，它的主要方法包括以下幾種：
真空蒸鍍
其原理是在真空條件下，用蒸發(fā)器加熱帶蒸發(fā)物質(zhì)，使其氣化或升華，蒸發(fā)離子流直接射向基片，并在基片上沉積析出固態(tài)薄膜的技術(shù)。
濺射鍍膜
濺射鍍膜是真空條件下，在陰極接上2000V高壓電，激發(fā)輝光放電，真空鍍膜加工廠，帶正電的離子撞擊陰極，常平真空鍍膜加工，使其射出原子，塑膠真空鍍膜加工，濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基片上形成膜層。


 

 
基體外表狀況對鍍層布局的影響
　　真空鍍膜層是由晶體或晶粒組成的，晶體的大小、形狀及擺放方法決議著鍍層的布局特性。在各種不一樣的電鍍液中，金屬鍍層的布局特性也是不一樣的，主要是堆積進(jìn)程不一樣所造成的。開端電鍍時，基體資料外表首要生成一些纖細(xì)的小點，即結(jié)晶核，跟著時刻添加，單個結(jié)晶數(shù)量添加，并相互銜接成片，構(gòu)成鍍層。



離子鍍膜
即干式螺桿真空泵廠家已經(jīng)介紹過的真空離子鍍膜。它是在上面兩種真空鍍膜技術(shù)基礎(chǔ)上發(fā)展而來的，因此兼有兩者的工藝特點。在真空條件下，利用氣體放電使工作氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)（膜材）部分離化，并在離子轟擊下，將蒸發(fā)物或其反應(yīng)物沉積在基片表面。在膜的形成過程中，基片始終受到高能粒子的轟擊，十分清潔。
真空卷繞鍍膜
真空卷繞鍍膜是一種利用物理氣相沉積的方法在柔性基體上連續(xù)鍍膜的技術(shù)，以實現(xiàn)柔性基體的一些功能性、裝飾性屬性。



 
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