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磁控濺射原理來制備一些金屬膜層和反應膜層，適用于金屬以及非金屬材料的涂層開發研究。通過調整靶材、氣氛和工藝參數即可完成不同材質，不同類型的鍍膜功能。

主要鍍制金屬及氧化物涂層、合金涂層、硬質涂層以及裝飾涂層等。真空室采用SUS304不銹鋼制造，雙層冷卻水套，上底與下底都有冷卻水套，水套中加有定向導流槽，確保冷卻均勻一致。

特點：

可鍍EMI/NCVM膜

磁控濺射與蒸發方式更佳結合

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