納米氧化硅拋光液是一種均勻穩(wěn)定的納米氧化硅分散漿料，是以高純度硅粉為原料，經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品。納米氧化硅拋光液具有優(yōu)異的分散性和穩(wěn)定性，能夠長(zhǎng)期儲(chǔ)存穩(wěn)定無(wú)沉淀。廣泛用于多種材料納米級(jí)的高平坦化拋光。如：硅片、化合物晶體、精密光學(xué)器件、寶石等的拋光加工。



產(chǎn)品特點(diǎn)

1、高拋光速率，利用大粒徑的膠體二氧化硅粒子達(dá)到高速拋光的目的（可以生產(chǎn)150 nm）

2、粒度可控，根據(jù)不同需要，可生產(chǎn)不同粒度的產(chǎn)品（10-150 nm）

3、高純度（Cu含量小于50 ppb），有效減小對(duì)電子類產(chǎn)品的沾污

4、高平坦度加工，本品拋光利用SiO2的膠體粒子，不會(huì)對(duì)加工件造成物理?yè)p傷，達(dá)到高平坦化加工



應(yīng)用領(lǐng)域

1、 光通訊領(lǐng)域，配合公司專門為光纖連接器開發(fā)的拋光產(chǎn)品，能達(dá)到超精細(xì)拋光效果，拋光后連接器端面沒有劃傷和缺陷，3D指標(biāo)和反射衰減指標(biāo)達(dá)到。

2、 硬盤基片的拋光，SiO2磨料呈球形，具有粒度均勻、分散性好、平坦化等優(yōu)點(diǎn)。

3、 硅晶圓、藍(lán)寶石等半導(dǎo)體及襯底材料的粗拋和精拋，具有拋光速率高，拋光后易清洗，表面粗糙度低，能夠得到總厚偏差（TTV）極小的質(zhì)量表面。

4、其他領(lǐng)域的應(yīng)用，如不銹鋼、光學(xué)玻璃等領(lǐng)域，拋光后能達(dá)到良好的拋光效果